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d'une prforme : barreau de silice trs pure, qui est compos d'un
diamtre de plusieurs centimtres.
Il existe un grand nombre de processus pour concevoir une prforme des
internes comme la mthode PCVD (Plasma Chemical Vapor Deposition),
ou externes comme la mthode VAD (Vapor Axial Deposition).
Le paragraphe suivant dcrit la mthode MCVD (Modified Chemical Vapor
Deposition, dpt chimique en phase vapeur modifie) qui est la plus
utilise.
Un tube substrat est plac en rotation horizontale dans un tour verrier, des
gaz sont injects l'intrieur et vont se dposer l'intrieur sous l'effet de
la chaleur produite par un chalumeau.
Ces gaz vont modifier les proprits du verre (par exemple l'aluminium
permet d'augmenter l'indice).
Les couches dposes sont ensuite vitrifies au passage du chalumeau.
Ensuite le tube est chauff haute temprature et va se refermer sur luimme pour former la prforme (28).
L'opration de manchonnage permet par la suite de rajouter une couche de
silice autour de la prforme pour obtenir la ration coeur/gaine voulue pour la
future fibre.
La socit ALCATEL a dvelopp une technologie propritaire APVD
(Advanced Plasma and Vapor Deposition) pour remplacer l'opration de
manchonnage qui est trs coteuse.
Le procd APVD (communment appel recharge plasma) consiste faire
fondre des grains de quartz naturel trs pur sur la prforme primaire l'aide
d'un chalumeau plasma inductif.
L'association du procd MCVD et de la recharge plasma pour la
fabrication des fibres optiques monomodes qui a t mis au point en 1994
par la socit ALCALTE.